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麗江代寫償債能力評估報告 清控科創創新基地
點擊數:1494  更新時間:2022/8/14 

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麗江代寫償債(zhai)能(neng)力(li)評(ping)估報告 清控科創創新基地

 

1、投(tou)資項目的必要(yao)性

1)當前國際(ji)形(xing)勢復雜,我國必須形(xing)成(cheng)自主可控的集成(cheng)電(dian)路關鍵材料的產業化能(neng)力

當(dang)前(qian)國際(ji)形勢十分復雜,中(zhong)美貿易(yi)戰的影響日益(yi)深遠,對我國高(gao)精(jing)尖產(chan)業發展及(ji)工業化(hua)進程造成(cheng)(cheng)了一定的阻礙。目前(qian)高(gao)端集成(cheng)(cheng)電路材料的核心產(chan)業化(hua)技術(shu)仍掌握在國外(wai)企業手中(zhong),大部分市場份額(e)仍被外(wai)企所(suo)占據。目前(qian)不少集成(cheng)(cheng)電路用關鍵材料已經成(cheng)(cheng)為我國卡脖子的(de)(de)技術領(ling)域,如果我國仍未形成自己(ji)的(de)(de)產業化能(neng)力(li),在(zai)國際環(huan)境日(ri)益嚴峻的(de)(de)情況下,未來要想(xiang)形成該領(ling)域的(de)(de)國產化,將(jiang)付出更大的(de)(de)代價。實(shi)施集成電路制造用高端光刻(ke)膠研發項目能夠(gou)疏(shu)通行業閉塞的產業環境,對振(zhen)興(xing)國內半導體材(cai)料產業,促進產品(pin)升(sheng)級換代具(ju)有重要意(yi)義。

2)作為(wei)半(ban)導體領域(yu)技術壁壘最高的材料之一,光刻膠國產化任重道遠

光刻(ke)膠生產(chan)工藝復(fu)雜,技(ji)術壁壘(lei)較高,長年被(bei)日本(ben)、歐(ou)美企業壟斷,目(mu)前前五大(da)廠商占(zhan)據了全球(qiu)光刻(ke)膠市場87%的(de)份(fen)額,行業集(ji)中度(du)較高。我國光刻膠行業發(fa)展起步較晚,生產能力主要集(ji)中于PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻(ke)膠等中低(di)端產品,而(er)TFT-LCD、半導(dao)體光(guang)(guang)刻膠等(deng)高端(duan)產(chan)品仍需(xu)大量進口。半導(dao)體光(guang)(guang)刻膠是(shi)光(guang)(guang)刻膠中最高端(duan)的(de)組成(cheng)部(bu)分,作為集成(cheng)電(dian)路(lu)生產(chan)過程中的(de)重要一環,對我(wo)國集成(cheng)電(dian)路(lu)發(fa)展具(ju)有(you)重要意義。近年來在市場(chang)拉動和政策支(zhi)持下,我(wo)國集成(cheng)電(dian)路(lu)產(chan)業整體實力顯著(zhu)提(ti)升,對上(shang)游材料的(de)需(xu)求也快速增長,但(dan)受制(zhi)于我(wo)國光(guang)(guang)刻膠技術發(fa)展水平,目前適用于6英寸(cun)硅片的(de)g線(xian)、i線光(guang)刻膠的自給率(lv)約為20%,適用(yong)于8英(ying)寸(cun)硅片(pian)的KrF光(guang)刻膠(jiao)的自給(gei)率不足(zu)5%,而(er)適用于12寸硅片的ArF光(guang)刻膠基(ji)本依(yi)靠進口,光(guang)刻膠國產化任重道遠(yuan)。

2、投資項目的可行性

1)具有良好的(de)技(ji)術(shu)基礎(chu)

本公(gong)司量(liang)產光刻(ke)膠近30年,組(zu)建了國內領先的光刻(ke)膠研發(fa)團隊,具(ju)有豐富的光刻(ke)膠研發(fa)和(he)生產經(jing)驗。公司先后(hou)承(cheng)擔了國家“85”攻關、“863”重(zhong)大專項、科(ke)(ke)技部創新基(ji)金(jin)等科(ke)(ke)技項目,并承擔(dan)了上一期國家02重大專項光刻膠研發項目(mu),2018年(nian)圓滿完成(cheng)了該02重大專項中的i線光(guang)刻膠子項研(yan)發任務,順利(li)通過國家驗(yan)收,i線光刻膠(jiao)產品已正常供應中(zhong)芯國際等(deng)代表性的半導(dao)體企業使(shi)用。目前(qian)公司(si)完成(cheng)中(zhong)試的KrF248nm)光刻膠(jiao)也已進入客戶(hu)測試階段,達到0.15μm的分辨率(lv)。此外(wai),公司在2016年(nian)與(yu)日本三菱化學(xue)株式會(hui)社(she)在(zai)蘇州設(she)立了LCD用彩(cai)色光刻(ke)膠共(gong)同研究所(suo),為三菱化學的彩(cai)色光刻(ke)膠在國(guo)內(nei)的檢(jian)測以(yi)及中國(guo)國(guo)內(nei)客戶評定檢(jian)測服(fu)務,并于2019年開始批量(liang)生產供應顯示面板廠家。

2)具備知識(shi)產權基礎

本公司已獲授(shou)權(quan)發(fa)明專利39項,其中(zhong)有(you)16項光(guang)刻膠相關(guan)的發(fa)明專(zhuan)利已(yi)獲授權,主(zhu)要有一種(zhong)(zhong)聚氨酯丙烯酸酯共聚物(wu)及其光(guang)刻膠組合物(wu)、一種(zhong)(zhong)馬來酸酐開環(huan)改性支化(hua)低(di)聚物(wu)制備的堿溶(rong)性光(guang)敏樹脂及其光(guang)致抗蝕劑組合物(wu)、一種(zhong)(zhong)基于RAFT聚(ju)合法制備248深紫外光刻膠成膜樹脂等(deng)。累計開發十多個新產品系(xi)列(lie),并(bing)都已(yi)得(de)到大型半導體客(ke)戶的(de)批(pi)量應用。其中,新(xin)型(xing)正性光刻膠新型負性光刻膠光刻膠剝離液5項產品被認定(ding)為(wei)江蘇省(sheng)高新技(ji)術(shu)產品

3)優(you)質客戶資(zi)源基礎(chu)

華虹半導體、長鑫存儲等國內主流的(de)集成(cheng)電路制造商是公(gong)司客戶,已成(cheng)為公(gong)司戰略(lve)合作伙伴。2020年(nian)6月,蘇州瑞紅與合肥(fei)長(chang)鑫(xin)于長三角一體化發展重(zhong)大(da)合作事項簽(qian)約(yue)儀式上簽署光刻膠相關(guan)合作協議。未來公司將(jiang)聯(lian)合華虹半(ban)導(dao)體、長(chang)鑫存儲等下游客戶共同(tong)推進高端光刻膠產品研發(fa)和(he)應用(yong)。依(yi)托國(guo)內(nei)半(ban)導(dao)體制造龍(long)頭企業(ye)一流的技(ji)術和(he)管理,取得他們的驗證認可(ke),具有較(jiao)(jiao)強的代表(biao)性(xing)、較(jiao)(jiao)高的可(ke)信(xin)度和(he)權威性(xing),對公司未來產品的市場推廣和(he)國(guo)產化替代有至關(guan)重要的推進作用(yong)。

1、投資(zi)項目的必(bi)要(yao)性

1)當前國(guo)際(ji)形勢(shi)復雜,我(wo)國(guo)必須形成(cheng)自主可控的集成(cheng)電路關鍵材料的產業化(hua)能(neng)力

當前(qian)國(guo)際形勢十分復雜,中美貿易戰(zhan)的(de)影響(xiang)日益深遠(yuan),對(dui)我國(guo)高(gao)精尖產業發展(zhan)及(ji)工業化(hua)進程(cheng)造成(cheng)了(le)一(yi)定的(de)阻礙。目前(qian)高(gao)端集成(cheng)電(dian)路材料(liao)的(de)核(he)心產業化(hua)技(ji)術仍掌(zhang)握在國(guo)外企業手(shou)中,大(da)部分市場份額仍被外企所占據。目前(qian)不少(shao)集成(cheng)電(dian)路用(yong)關鍵(jian)材料(liao)已經成(cheng)為(wei)我國(guo)卡脖子的(de)技術領域,如(ru)果我國仍(reng)未形(xing)成自己(ji)的(de)產業化(hua)(hua)能力,在國際環境日益嚴峻的(de)情(qing)況下,未來要想形(xing)成該領域的(de)國產化(hua)(hua),將付(fu)出更(geng)大的(de)代價(jia)。實施(shi)集成(cheng)電路制造用高端光刻膠研發(fa)項目能夠疏通行(xing)業(ye)閉(bi)塞的(de)產(chan)業環境,對振興國內(nei)半(ban)導體材料(liao)產(chan)業,促進產(chan)品升級換代具有重要意義(yi)。

2)作為半導體領域技術壁壘最高的材料之一,光刻膠國產化任重道遠

光刻(ke)膠生產工藝復(fu)雜,技術壁壘較高(gao),長年被日本、歐(ou)美(mei)企業壟斷,目前前五大廠商占據了全球光刻(ke)膠市場87%的份額,行業(ye)集中度較高。我國光刻膠行業(ye)發展起步較晚,生產能力主(zhu)要集中于PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chan)品(pin),而TFT-LCD、半(ban)導體光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)等高端產品仍需(xu)大量進(jin)口。半(ban)導體光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)是光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)中(zhong)最高端的(de)組成(cheng)部分,作為(wei)集成(cheng)電路(lu)生產過(guo)程(cheng)中(zhong)的(de)重(zhong)(zhong)要(yao)一環,對(dui)我國集成(cheng)電路(lu)發展具有重(zhong)(zhong)要(yao)意(yi)義。近年來(lai)在市場拉動和政策支持下,我國集成(cheng)電路(lu)產業整體實(shi)力顯著提升,對(dui)上(shang)游(you)材料的(de)需(xu)求也快速增長,但受制于我國光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)技術發展水(shui)平,目前適用于6英(ying)寸硅片的g線、i線(xian)光刻膠的自給率(lv)約(yue)為(wei)20%,適用于8英寸硅片的KrF光刻膠(jiao)的自給率(lv)不足5%,而(er)適(shi)用于12寸硅片的ArF光(guang)刻(ke)(ke)膠基本依靠進口,光(guang)刻(ke)(ke)膠國產化任重道遠。

2、投資項目的可(ke)行性(xing)

1)具有良好的技術基礎(chu)

本(ben)公司量產光刻(ke)膠近30年,組建了國(guo)內領先(xian)的光刻膠研發(fa)團隊,具有(you)豐富(fu)的光刻膠研發(fa)和生產(chan)經驗。公司先(xian)后承擔了國(guo)家(jia)“85”攻關、“863”重大專項、科技(ji)部創(chuang)新(xin)基(ji)金等科技(ji)項目(mu),并承擔了上一期國家02重(zhong)大專項光刻膠研發(fa)項目,2018年(nian)圓滿完(wan)成了該02重大專項中的i線光刻膠子(zi)項研發任務(wu),順利(li)通過(guo)國家驗收,i線光刻(ke)膠(jiao)產品已正常供應中芯國際等代表性的(de)(de)半導體企業(ye)使用。目前公(gong)司完成中試(shi)的(de)(de)KrF248nm)光刻膠也已進入客戶(hu)測(ce)試階段,達(da)到(dao)0.15μm的分辨率。此外,公司在2016年與日本(ben)三菱化(hua)學(xue)株式會社在蘇(su)州設立了LCD用彩(cai)色光(guang)刻膠(jiao)共(gong)同(tong)研(yan)究所,為三(san)菱化學的(de)(de)彩(cai)色光(guang)刻膠(jiao)在(zai)國內的(de)(de)檢(jian)測(ce)以及(ji)中國國內客戶評定檢(jian)測(ce)服(fu)務,并于(yu)2019年開(kai)始批量(liang)生產供應顯示面板廠(chang)家。

2)具備知識(shi)產權(quan)基(ji)礎


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